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- 2023-06-20 发布于四川
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本发明提供了一种大口径基底镀膜工装,属于镀膜工装技术领域,在所述工装的中间开设与基底形状一致的凹槽,所述凹槽的侧壁构成限位结构,在所述凹槽的底面设置支撑结构,基底装配于所述凹槽内,在所述工装的边缘设置固定结构;所述支撑结构与镀膜完成后的光学元件在工作时的支撑结构保持一致,用于在镀膜过程中支撑基底;所述限位结构用于限制基底的平移,使基底保持不动;所述固定结构用于将所述工装固定于镀膜机样品台上。本发明的大口径基底镀膜工装,能够提供与工作环境相近的支撑条件,保证了薄膜沉积过程与最终使用条件基底面形的一
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113322445 B
(45)授权公告日 2022.07.22
(21)申请号 202110608116.3 C23C 16/458 (2006.01)
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