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反射型掩模坯料的制造方法及反射型掩模坯料.pdfVIP

反射型掩模坯料的制造方法及反射型掩模坯料.pdf

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    本发明涉及反射型掩模坯料的制造方法及反射型掩模坯料。通过溅射法制造了一种反射型掩模坯料，其包括基底、多层反射膜和吸收体膜，该多层反射膜由至少两个第一层和至少两个第二层构成，该第一层和第二层交替层叠，且具有彼此不同的光学特性。通过由第一阶段和第二阶段组成的两个阶段来形成每个层，其中从每个层的形成开始时到形成规定厚度为止施加第一阶段，且从形成规定厚度开始到每个层的形成结束为止施加第二阶段；以及将第一阶段的溅射压力设定为高于刚形成层的形成结束时的溅射压力和第二阶段的溅射压力二者。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113341644 A (43)申请公布日 2021.09.03 (21)申请号 202110229567.6 C23C 14/35 (2006.01)

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