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边缘环的保持方法、等离子体处理装置及基板处理系统.pdfVIP

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  • 2023-06-22 发布于四川
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边缘环的保持方法、等离子体处理装置及基板处理系统.pdf

    本发明的等离子体处理装置的基板支承器的第1静电卡盘具有第1及第2电极，保持边缘环。基板支承器的第2静电卡盘保持基板。第1电极比第2电极更靠近第2静电卡盘延伸。在等离子体处理中，具有正极性的第1电压被施加到第1及第2电极。在等离子体处理后的第1期间，具有负极性的第2电压被施加到第1及第2电极。在第1期间之后的第2期间，具有正极性的第3电压被施加到第1电极，具有负极性的第4电压被施加到第2电极。第3电压的绝对值小于第1电压的绝对值及第2电压的绝对值。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113394068 A (43)申请公布日 2021.09.14 (21)申请号 202110212251.6 (22)申请日 2021.02.25 (30)优先权数据 2020-0417

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