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- 2023-06-22 发布于四川
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本公开提供了一种半导体集成电路设计方法及装置，涉及半导体技术领域，该半导体集成电路设计方法包括基于原始版图，确定栅极结构的端部伸出其所在有源区的原始长度；根据预设规则和原始长度，重新确定栅极结构的端部伸出其所在有源区的修正长度；整合原始版图和修正长度，形成更新版图。本公开能自动定位到版图中待调整的栅极结构，并在满足设计规则检查距离要求条件下，对伸出有源区长度不足的栅极结构拉伸至所允许的最大值，从而有效避免移动版图中原有晶体管的位置，节约项目开发周期。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113392617 B
(45)授权公告日 2022.04.19
(21)申请号 202110783796.2 (56)对比文件
(22)申请日 2021.07.12
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