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本发明提供一种基板处理方法和基板处理系统，高精度地监视为了进行基板处理而供给的气体的总流量。作为使用被供给至腔室的气体来处理基板的方法，该方法包括以下工序：工序(a)，在测定向所述腔室供给的气体的压力来控制该气体的流量的流量控制器中，设定作为控制对象的气体的压力的阈值；工序(b)，向所述腔室的内部供给气体；工序(c)，测定所述流量控制器中的气体的压力；工序(d)，停止向所述腔室的内部供给气体；工序(e)，计算在所述工序(c)中测定出的气体的压力为所述阈值以上的时间；以及工序(f)，基于在所述工序
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113394130 A
(43)申请公布日 2021.09.14
(21)申请号 202110241710.3
(22)申请日 2021.03.04
(30)优先权数据
2020-0415
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