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本公开提供了一种低欧姆接触紫外发光二极管外延片的制备方法,属于发光二极管技术领域。材料为本征AlGaN材料的AlGaN欧姆接触层本身的质量好,且对紫外光线的透过率高,减小对紫外光线的吸收以提高出光率。而使氯气电离的Cl‑作用于AlGaN欧姆接触层的表面,Cl‑与AlGaN欧姆接触层中的Ga存在共价键作用,在欧姆接触层的表面形成氯单分子层,达到使欧姆接触层的表面功函数得到明显降低的效果,从而有利于欧姆接触层与后续的电极金属导电层形成良好的欧姆接触,电极金属与AlGaN欧姆接触层之间的欧姆接触较低,
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113540294 B
(45)授权公告日 2022.08.12
(21)申请号 202110593081.0 H01L 33/14 (2010.01)
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