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公开了一种脉冲激光沉积装置，包括：反应腔，内部设置有用于固定基片台的支撑柱，位于基片台上方的第一加热元件和位于基片台下方的第二加热元件；多个靶机，靶机的第二端固定有靶材，靶材位于反应腔内的基片台的上方和/或下方，靶材的表面与基片台的表面形成夹角；多个激光装置，多个激光装置分别产生激光束，其中，第一加热元件和第二加热元件上分别具有缺口，激光束沿平行于基片台表面的方向直线到达靶材表面，激光束照射靶材表面形成的等离子体经由第一加热元件和第二加热元件上的缺口到达基片台表面。本申请的脉冲激光沉积装置，采用
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113445007 A
(43)申请公布日 2021.09.28
(21)申请号 202110591239.0
(22)申请日 2021.05.28
(71)申请人 松山湖材料实验室
地址
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