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一种大尺寸单晶硅片的清洗方法.pdfVIP

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  • 2023-06-24 发布于四川
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一种大尺寸单晶硅片的清洗方法.pdf

    一种大尺寸单晶硅片的清洗方法，其包括如下步骤，预处理：通过离心机对大尺寸单晶硅片进行离心预处理，去除大尺寸单晶硅片上的大颗粒杂质及残留液体；清洗箱抽真空：关闭阀门一、二、四、五，确认清洗箱内无其他阀门打开；开启真空泵将清洗箱内抽真空，并时刻观察清洗箱内压力和湿度数值，此步骤为预抽真空以使清洗箱内达到要求的洁净度；本发明结构新颖，构思巧妙，干冰微粒喷射清洗技术可以无损伤地清洗硅片，不仅有效减少了对水资源、化学试剂等能源的浪费，同时解决了传统清洗工艺污染环境的问题，本发明通过干冰微粒喷射清洗设备实现

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116313740 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202111567167.2 (22)申请日 2021.12.20 (71)申请人 高佳太阳能股份有限公司 地址 2

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