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本发明属于半导体技术领域,具体涉及一种复合多层金属基板及其制备方法、一种功率半导体器件。包括以下步骤:在反应腔内固定好靶材和基板,并加热基板;开启第一激光器轰击第一贵金属靶材,在基板上沉积第一贵金属薄膜;第一激光器停止工作,开启第二激光器轰击第二贵金属靶材,在第一贵金属薄膜上沉积第二贵金属薄膜;使第一脉冲激光的轰击靶材转换为第一自蔓延金属靶材,第二脉冲激光的轰击靶材转换为第二自蔓延金属靶材;交替使第一激光器和第二激光器工作,形成自蔓延金属薄膜,即得。该方法制备所得金属基板,既具有抗氧化效果,也具
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116313825 A
(43)申请公布日 2023.06.23
(21)申请号 202310054856.6
(22)申请日 2023.02.03
(71)申请人 北京工业大学
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