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- 2023-06-26 发布于四川
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本申请公开一种半导体器件的形成方法，包括：形成牺牲层，设置在衬底上；进行第一蚀刻工艺，移除部分牺牲层，形成多个第一凹槽；形成第一介质层；进行第二蚀刻工艺，移除多个第一凹槽外的所述第一介质层，形成第一隔离结构，所述第一隔离结构中存在缝隙；进行第三蚀刻工艺，刻蚀所述多个第一隔离结构，以去除所述多个第一隔离结构顶端的部分介质材料，暴露所述缝隙；形成第二介质层，覆盖所述多个第一隔离结构和所述牺牲层，所述第二介质层填充各个所述缝隙的至少部分空间；进行第四蚀刻工艺，移除所述第二介质层的顶部，直至暴露所述牺牲
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116322040 A
(43)申请公布日 2023.06.23
(21)申请号 202310369444.1
(22)申请日 2023.04.07
(71)申请人 福建省晋华集成电路有限公司
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