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- 2023-06-28 发布于四川
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本发明提供了一种在腔体内形成膜层的方法及电子器件的制备方法。其具体利用无机材料层作为腔体内膜层的图形化掩模，由于无机材料层相对于光刻胶层具备更高的膜层稳定性，不易发生形变，有利于保持所定义出的图形精度。并且，相对于光刻胶层而言，无机材料层还可以承受更高的温度，从而一定程度的缓解了光刻胶不耐高温而使制程温度受到限制的问题，大大提高了制程工艺的灵活性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113651292 B
(45)授权公告日 2022.01.28
(21)申请号 202111224075.4 审查员 刘恋恋
(22)申请日 2021.10.21
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