等离子体控制装置和等离子体处理系统.pdfVIP

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2023-07-01 发布于四川
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等离子体控制装置和等离子体处理系统.pdf

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提供了一种等离子体控制装置，包括：等离子体电极，设置在等离子体腔室中，并且具有基频的射频(RF)功率被施加到该等离子体电极以生成等离子体；边缘电极，与等离子体电极相邻设置，并且对应于等离子体边缘边界区；以及等离子体控制电路，电连接到边缘电极，该等离子体控制电路被配置为控制基频分量、由等离子体的非线性生成的谐波分量以及由基频分量和谐波分量中的每一个和等离子体腔室中的频率分量生成的互调失真频率分量在等离子体边缘边界区中的电边界条件，其中，等离子体控制电路被配置为改变电边界条件以控制等离子体腔室中的驻

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116364513 A (43)申请公布日 2023.06.30 (21)申请号 202211629767.1 (22)申请日 2022.12.13 (30)优先权数据 10-2021-0189669