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一种低吸收低热畸变薄膜及其制备方法，包括基础膜系选择、膜系优化、基板的超声清洗、基板的真空离子束清洗、离子束溅射制备薄膜、退火后处理；将膜系分为低吸收控制层和低热畸变控制层两部分分别优化的膜系优化方法，并通过镀膜前的基板处理及镀膜后的退火后处理降低薄膜内部的吸收性缺陷，使用双离子束溅射的沉积方式并通过沉积过程中的参数调控进一步改善薄膜的热畸变。本发明可以在整个工艺流程上获得和保障反射率大于99.995％的高反射膜，同时与普通工艺制备出的薄膜相比吸收降低99％。采用本发明制备出的薄膜在长时间工作下
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113721313 B
(45)授权公告日 2022.05.31
(21)申请号 202110918058.4 (51)Int.Cl.
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