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用于校准光发射光谱仪的方法.pdfVIP

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  • 2023-07-02 发布于四川
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用于校准光发射光谱仪的方法.pdf

    于此描述的一个或多个实施方式大体关于用于校准用于处理半导体基板的光发射光谱仪(OES)的系统和方法。在于此的实施方式中，将灯具安装到处理腔室内的板上。光源位于灯具内，使得光源提供直接投射在窗口处的光路，OES通过窗口观察处理腔室中以进行读取。当光源打开时，OES测量来自光源的辐射的光强度。为了校准OES，比较在两个不同时间的在打开光源时光源的光强度。若在第一时间的辐射的光强度与在第二时间的辐射的光强度不同，则修改OES。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113748322 A (43)申请公布日 2021.12.03 (21)申请号 202080031181.8 黄明绿　 (22)申请日 2020.03.27

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