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本发明涉及光伏组件技术领域,尤其涉及一种光伏组件制造方法,采用离子轰击薄膜基底清理表面污垢和水汽,在不同区域根据粗糙度不同选用不同的离子轰击能量,在镀Mo膜时采用磁控镀膜,使用移动溅射靶,当移动靶移动至不同区域时根据不同区域对应的粗糙度调整溅射靶高度以及溅射靶溅射功率,并对调整参量修正,保证镀膜的均匀性和一致性,避免因为粗糙度问题使得镀膜不均,获得较佳的镀膜均匀性和一致性,通过蒸发法沉积吸收层,通过厚度变化调整温度,保证温度处于较佳范围,以及获得较佳的积膜速率,避免出现松散的多孔,进而提高透光率
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115863489 A
(43)申请公布日 2023.03.28
(21)申请号 202310186566.7 C23C 14/54 (2006.01)
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