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本发明涉及化学机械抛光技术领域，公开了一种表面具有沟槽的抛光垫，其包括圆形的抛光层，抛光层上设置有第一沟槽、第二沟槽及第三沟槽；第一沟槽位于抛光层的表面，且第一沟槽以抛光层的圆心为起点呈螺旋状延伸至抛光层的边缘；第二沟槽位于抛光层的表面，且第二沟槽以抛光层的圆心为起点沿径向延伸至抛光层的边缘；第三沟槽位于抛光层的表面，且第三沟槽以第二沟槽上的某点为起点延伸至抛光层的边缘。本发明实施例的抛光垫通过螺旋状延伸的第一沟槽能够调控抛光液的切向加速度，实现抛光液均匀分布，提高去除率，通过径向延伸的第二沟槽
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113752160 A
(43)申请公布日 2021.12.07
(21)申请号 202111023506.0
(22)申请日 2021.09.01
(71)申请人 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院
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