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本发明公开了一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备，内部适于通过载板并对载板上的工件进行成膜，还包括壳体、观察窗和挡板，所述壳体上设置有所述观察窗，所述观察窗用于提供观察所述载板的窗口，所述壳体的内部和外部均设置有所述挡板，所述挡板用于遮挡所述观察窗，所述挡板包括第一挡板和第二挡板；本发明中，在壳体上设置有观察窗，在观察窗的内侧和外侧设置有挡板，通过设置第一挡板的遮挡，使腔室在用于进行磁控溅射时，靶材材料、灰尘及其他杂质不容易落在观察窗上，在壳体的外部铰接第二挡板，通过第二挡板使观察窗的外部选择性的遮挡
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113774350 A
(43)申请公布日 2021.12.10
(21)申请号 202111178475.6
(22)申请日 2021.10.10
(71)申请人 成都超迈光电科技有限公司
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