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- 2023-07-05 发布于四川
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根据本发明提供了一种等离子体生成设备。该等离子体生成设备用于对衬底进行等离子体处理，其包括腔室、等离子体产生装置、衬底支撑件和法拉第屏障，腔室具有内表面，等离子体产生装置用于在腔室内产生感应耦合等离子体，衬底支撑件用于在等离子体处理期间支撑衬底，法拉第屏障布置在所述腔室内以用于对内表面的至少一部分进行屏蔽以免受由等离子体处理从衬底移除的材料的影响，其中，等离子体产生装置包括天线和RF电源，RF电源用于将RF电能供应至具有极性的天线，该极性在小于或等于1000Hz的频率下进行交替变化。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113811063 A
(43)申请公布日 2021.12.17
(21)申请号 202111092308.X (51)Int.Cl.
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