原创力文档- 2
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- 2023-07-05 发布于四川
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本发明提供能够将微细的孔图案稳定地析像的光掩模。本光掩模具备露出透过性基板的透过部、以及以包围透过部的方式将曝光光的相位反转的第一相移部和第二相移部。第二相移部介于第一相移部与透过部之间，第二相移部对曝光光的透射率比第一相移部的透射率低。另外，第二相移部可由第一相移部的相移膜与半透过膜的层叠结构构成。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113805428 A
(43)申请公布日 2021.12.17
(21)申请号 202110618642.8
(22)申请日 2021.06.03
(30)优先权数据
2020-1032
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