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距离正则水平集与卷积神经网络的水平集掩膜优化方法，为了解决掩模版在先进工艺下的优化问题，选取深度水平集掩膜数据集以及对应的掩膜标签作为训练神经网络模型的样本数据集，挑选该样本数据集中的一组图片和对应标签，同时做随机的旋转、缩放、平移和裁剪处理，并重新调整图像顺序将其合成两份三维数据包：一份存深度水平集合数据，一份存对应的标签，效果是实现了卷积神经网络和水平集的联合分割效果。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113792866 A
(43)申请公布日 2021.12.14
(21)申请号 202111271532.5
(22)申请日 2021.10.29
(71)申请人 智腾科技股份有限公司
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