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本申请涉及一种离子束修形离子源及其启动方法、真空腔室，所述离子源包括：包括设于腔体两侧的阳极和磁场，以及设于腔体前端的栅网；还包括设于腔体后端的中空阴极，以及设置在中空阴极前的电子均匀板；其中，所述中空阴极从腔体后端套入腔体内；所述中空阴极用于向腔体内注入电子束流；所述电子均匀板将所述电子束流均匀分散进入到阳极区域内；所述电子束流中的电子在阳极的电场和磁场的作用下电离，并在所述栅网的电场作用下引出离子束流；采用中空阴极结构为阳极提供离子供体的中空阴极直流源结构，结构轻巧，性能稳定，实现了小束斑、
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113793791 A
(43)申请公布日 2021.12.14
(21)申请号 202111083180.0 C23C 14/56 (2006.01)
(22)申请日 2
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