原创力文档- 2
- 0
- 约2.86万字
- 约 31页
- 2023-07-05 发布于四川
- 举报
本发明提供一种投影光刻机、照明系统、控制系统及方法。照明系统包括：光源、微镜阵列、照明光路以及微镜阵列数字控制器；所述光源适于发出曝光光束，所述微镜阵列数字控制器适于发出微镜阵列控制信号，以控制所述微镜阵列不同区域的微镜像素开闭状态；所述微镜阵列适于根据所述微镜阵列控制信号形成狭缝窗口，接收入射至所述狭缝窗口的曝光光束，以形成照明光束；所述照明光路适于调制所述照明光束，以在掩模版上形成照明视场。本发明能够简化投影光刻机扫描狭缝模块控制复杂度，并降低扫描狭缝窗口的实现成本。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113805439 A
(43)申请公布日 2021.12.17
(21)申请号 202111115762.2
(22)申请日 2021.09.23
(71)申请人 上海度宁科技有限公司
文档评论（0）