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本发明涉及用于测量半导体装置的诸层之间的未对准的装置及方法。上述装置包含:包括第一嵌入电极与第二嵌入电极的第一导电层;包括第三嵌入电极的第二导电层;连接至第一嵌入电极的第一时变电压源;连接至第二嵌入电极的第二时变电压源,其中第一时变电压源与第二时变电压源使电荷被存储在第一导电层的第一嵌入电极、第二嵌入电极与第二导电层的第三嵌入电极之间;以及可操作地连接至第三嵌入电极的感测电路,感测电路用于:确定电荷的量;以及根据电荷的量确定第一导电层与第二导电层之间的未对准程度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113790750 A
(43)申请公布日 2021.12.14
(21)申请号 202111113660.7
(22)申请日 2018.10.11
(30)优先权数据
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