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本发明公开了一种金刚石基非晶碳‑氧化钇梯度复合增透膜的制备方法,首先将预处理后的金刚石光学晶片材料进行中低温离子束刻蚀清洗处理,在金刚石晶片的上下两面同时依次制备高sp3键含量的四面体非晶碳和低sp3键含量的三维网络非晶碳薄膜;然后对非晶碳薄膜先后进行真空退火去应力和抛光去石墨相大颗粒处理工艺,得到光滑平整表面;最后在处理后的非晶碳薄膜上下表面分别沉积氧化钇薄膜,从而得到金刚石基非晶碳‑氧化钇梯度复合增透膜。本发明综合利用非晶碳过渡层的折射率易调控特性及其与氧化钇复合薄膜高增透的优势,对于降低金
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113832430 A
(43)申请公布日 2021.12.24
(21)申请号 202111149652.8 C23C 14/58 (2006.01)
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