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本申请公开了一种镀膜设备，包括：反应腔；温控部；第一气体供给部，用于在温控部将反应腔内的温度控制在第一预设温度范围内时，向反应腔提供第一镀膜气体，使得反应腔内产生原子层沉积反应/等离子体增强原子层沉积反应；真空系统；第二气体供给部，用于在温控部将反应腔内的温度控制在第二预设温度范围内时，向反应腔提供第二镀膜气体；电源，用于在真空系统将反应腔内的真空度控制在预定真空度范围内，以及第二气体供给部向反应腔提供第二镀膜气体后，向反应腔内馈入电压，使得反应腔内产生等离子体增强化学气相沉积反应。本申请的镀膜
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113862644 A
(43)申请公布日 2021.12.31
(21)申请号 202111105642.4
(22)申请日 2021.09.22
(71)申请人 江苏微导纳米科技股份有限公司
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