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真空室.pdfVIP

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  • 2023-07-12 发布于四川
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真空室.pdf

    本实用新型涉及等离子体增强化学气相沉积技术领域，具体公开一种真空室，包括上部电极、真空室壁、气体扩散器、固定装置和绝缘块，上部电极、固定装置和气体扩散器设置在真空室壁的内侧，上部电极、固定装置和气体扩散器依次固定连接，绝缘块设置在固定装置、上部电极和真空室壁之间，绝缘块用于封堵上部电极和真空室壁之间的空隙，绝缘块由弹性绝缘材料制成，绝缘块上靠近固定装置的一端设置有避让部。本实用新型的真空室工作稳定，不良率低，可靠性高。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214168122 U (45)授权公告日 2021.09.10 (21)申请号 202023146950.5 (22)申请日 2020.12.23 (73)专利权人 乐金显示光电科技（中国）有限公

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