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本发明公开了一种化学气相沉积装置及其方法，该装置包含：反应室，其具有一进气开口和一排气开口，且所述反应室内设置有一托盘，用于承载基片；外壳体，其设置于所述反应室外侧，所述外壳体的内壁和所述反应室的外壁之间构成一容纳空间；多个辐射热源，其设置于所述容纳空间内，用于透过所述反应室的外壁加热所述基片；气压调整装置，其用于独立调控所述容纳空间和反应室内的气压。其优点是：该装置的容纳空间的气压小于大气气压，有助于降低反应室腔壁的承压压力，同时其不会影响辐射热源的热传递效率，有助于反应室内反应区域受热均匀性
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116411265 A
(43)申请公布日 2023.07.11
(21)申请号 202111666778.2 C30B 25/16 (2006.01)
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