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本发明涉及电镀制具技术领域，且公开了一种可调控电场式制具，包括电镀槽体，所述调控机构包括挂架、第一导电片、第二导电片(可控电场导电片亦包含二片以上之复数片)、导电框、电线组件和接电组件，所述电镀槽体的内侧滑动连接有挂架，所述挂架内部开设有与电镀槽体相对应的矩形通槽，所述挂架的内侧固定连接有第一导电片，所述挂架的内侧且在第一导电片的外侧连接有第二导电片，所述电镀槽体的内侧且在第二导电片的外侧固定连接有导电框。本发明不仅可改变铜离子的吸引力或推斥力，亦可同时改变不同位置的吸引力大小或推斥力大小，利用
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116427004 A
(43)申请公布日 2023.07.14
(21)申请号 202310385362.6
(22)申请日 2023.04.12
(71)申请人 苏州成汉芯业科技有限公司
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