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根据本公开的实施例提供了用于版图标记的方法、设备和介质。在该方法中,基于与第一晶圆中的第一套刻标记图案有关的第一测量结果,生成第一晶圆的版图中的一组套刻标记图案。第一套刻标记图案位于第一晶圆中的第一堆叠。一组套刻标记图案对应于第一晶圆中的第二堆叠。第二堆叠与第一堆叠不同。一组套刻标记图案中的每个套刻标记图案与第一套刻标记图案不同。该方法还包括生成分别与一组套刻标记图案对应的一组仿真结果。每个仿真结果模拟对应的套刻标记图案和第一套刻标记图案的光学量测。该方法还包括基于一组仿真结果,从一组套刻标记图
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116449657 A
(43)申请公布日 2023.07.18
(21)申请号 202310666767.7
(22)申请日 2023.06.06
(71)申请人 全芯智造技术有限公司
地址 23
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