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本发明属于显影装置技术领域，具体为一种用于大矢高柱面光刻胶显影的装置。包括支架，所述支架上设置有载物台，所述载物台的下方设置有显影池；所述支架上设置有驱动载物台摆动的第一驱动机构，所述支架上设置有驱动载物台远离或靠近显影池的第二驱动机构。本发明，通过在支架上设置第二驱动机构，能够更加稳定的将载物台放置到显影池之中，使显影池中的显影液与载物台上的光刻胶进行反应，通过设置第二驱动机构驱动载物台摆动，摆动的过程中可以将反应过后的杂质从光刻胶上的沟槽中甩出，使剩下的光刻胶能够进一步和显影液反应，加快了反
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116466549 A
(43)申请公布日 2023.07.21
(21)申请号 202310339325.1
(22)申请日 2023.03.31
(71)申请人 成都同力精密光电仪器制造有限公
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