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钛层-介质层刻蚀副产物处理方法.pdfVIP

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  • 2023-07-22 发布于四川
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钛层-介质层刻蚀副产物处理方法.pdf

    一种钛层‑介质层刻蚀副产物处理方法，包括步骤：步骤一，提供待刻蚀的钛层‑介质层复合膜层，包括衬底、介质层以及钛层；步骤二，图形化设置光刻胶，以露出部分的钛层，露出的钛层的线宽为100nm‑350nm；步骤三，将完成光刻胶设置的钛层‑介质层复合膜层置于双频等离子反应的腔室中；步骤四，双频等离子反应的腔室中进行主刻蚀，刻蚀气体为BCl3、Cl2和Ar，腔室的压力为8mT‑14mT，源功率为500W‑1200W，偏置功率为60W‑200W，BCl3的流量为20sccm‑200sccm，Cl2的流量为2

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116469761 A (43)申请公布日 2023.07.21 (21)申请号 202310228556.5 (22)申请日 2023.03.10 (71)申请人 安徽光智科技有限公司 地址

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