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本发明公开了一种用于射频负氢离子源的内置射频天线和制作工艺，该射频天线线圈数为2.5‑3.5圈，其圈径平均环绕直径为58mm；该内置射频天线的涂层为搪瓷结构，当该搪瓷结构同时满足涂层厚度为0.6‑0.7mm毫米、相对介电常数小于30、涂层电阻率大于45000Ω.cm的条件时，翘层电压逼近于0；该工艺方法包括：制作片状瓷釉；覆盖层浸搪；对具有覆盖层的铜胎天线进行烘干；烧制成品；将烘干的覆盖有釉料的铜胎天线放入熔烧炉中进行烧制，保温；取出成品，冷却至常温。重复（2）到（4）步骤，直至釉料层的厚度达到
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116470264 A
(43)申请公布日 2023.07.21
(21)申请号 202310396901.6 H05H 13/00 (2006.01)
(22)申请日 2023.04.
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