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缺陷检测设备.pdfVIP

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  • 2023-07-26 发布于四川
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缺陷检测设备.pdf

    本实用新型是关于一种缺陷检测设备，用于对完成刻划工艺的待测基板进行缺陷检测。所述待测基板包括衬底基板和位于所述衬底基板上的背电极层，所述设备包括：光源组件，用于提供光照，所述光源组件包括第一光源；采集装置，用于在所述第一光源发光时，采集所述第一光源透过所述待测基板形成的第一图像数据；处理装置，与所述采集装置相连接，用于根据所述第一图像数据反映的对应于各个刻划位置的光学参数分析所述待测基板是否存在缺陷。该技术方案可对完成刻划工艺的基板进行检测，以确保流入后续产线的产品良率。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 209911251 U (45)授权公告日 2020.01.07 (21)申请号 20192

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