内部控制下管理层防御与公司研发创新研究.docxVIP

内部控制下管理层防御与公司研发创新研究.docx

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? ? 内部控制下管理层防御与公司研发创新研究 ? ? 吴培乐 首都经济贸易大学会计学院 引言 近年来,越来越多的公司认识到研发创新的重要性,纷纷加大了研发创新力度。创新是一个中长期的过程,在创新过程中,因为技术水平差异,存在着信息不对称,研发创新活动存在着较高的风险和不确定性。尤其是在如今优胜劣汰、竞争激烈的大环境下,管理层对公司的控制能力加大,容易在内外部压力下,追求自身的效用最大化,实施防御行为,进而对公司的创新产生影响,从而影响创新产出和市场上整体技术水平,也会影响公司核心竞争力和经营业绩。本文从内部控制下管理者防御的视角对研发创新活动进行研究。 一、理论分析与研究假设 随着我国经济的发展,教育的普及,有志之士日益增多,人才竞争和岗位竞争也越来越激烈。对于管理者来说,可能面临着实现公司的经营目标、解雇、降职、消费等压力。此时,管理者为了维护自身的利益和地位,会采取措施进行防御[3]。 研发的过程具有较长的周期性,研发创新过程也会面临各种各样的不确定性,具有较高的风险,且因为技术或者是保密原因,外部投资者难以做出合理的评估,也难以发现研发创新投入和产出之间的效率,因此,在研发创新过程中,外部投资者和管理层之间存在着极大的信息不对称,信息并非完全透明的[2],故在研发创新活动的过程中具有较大的可操作空间。一方面,当内部控制薄弱,管理层产生自身防御行为,为了实现自身的效用最大化,可能会更倾向于进行研发创新投入,在研发创新过程中以权谋私,从而获得较大利润。另一方面,在内外部压力下,管理者为了减轻压力,树立出良好的追求创新的职业形象,也为了以后的职业生涯,可能会忽视风险,损害股东利益,增加研发投入[1]。基于此,本文提出以下假设H1: H1:管理层防御程度与公司创新投入呈正相关关系。 关于公司内部薪酬差距,研究发现,当公司内部薪酬差距过大时,将会降低公司的内部资源配置,不利于公司的发展[4]。公司内部薪酬差距过大,会造成两极分化较为严重的现象,但同时也增加对管理层的关注,对管理层行为加大监督,使管理层较难产生防御行为,同时破坏公司的团结性,产生消极怠慢情绪,影响工作效率,不利于创新。因此,基于内部薪酬差距过大的监督效应和对创新投入的减少,本文提出以下假设H2: 假设H2:公司内部薪酬差距减弱了管理层防御程度与公司创新投入的正相关关系。 二、研究设计 (一)样本选择与数据来源 本文选取2008—2019年沪深两市A股上市公司作为初始样本,本文剔除了:金融保险业、ST、*ST上市公司、行业观测值少于15个、存在缺失值的数据。另外,本文对所有公司特征变量进行了前后1%的winsorize处理。最终得到2008—2019年共13642个观测值。数据来源为WIND、CSMAR、CCER、RESSET数据库等,本文所有的数据处理均使用STATA15。 (二)变量定义 本文被解释变量为公司创新投入(RD),即研发投入占营业收入比例。 本文解释变量为管理层防御(Power),对管理层的年龄、任期、学历、是否兼任董事、是否外部兼职、是否持股这6个指标进行综合分析[5],得出管理层防御的综合指标。 本文调节变量为公司内部薪酬差距(Fpg),指标为管理层平均薪酬与员工平均薪酬的差额[6]。 本文的控制变量选取了财务风险(资产负债率Lev)、公司规模(Size)、市净率(Mtb)、前三名管理层薪酬(Comp)、总资本周转率(Tat)5个控制变量,同时也控制了年份(Year)和行业(Ind)。 (三)模型构建 为了检验假设H1,本文构建了如下公式(1): 为了检验假设H2,本文构建了如下公式(2) 三、实证检验与分析 (一)描述性统计 表1是所有样本的描述性统计,可以看出RD的取值在0.03~25.850之间,均值为4.55,说明不同公司之间的研发创新投入水平存在着较大的差异。管理层防御程度取值为1.271~1.683,均值为0.364,较为符合正态分布。公司内部薪酬差距分布在0.0613~20.081之间,均值为4.097,说明不同公司内部薪酬差距也存在着较大的差异。 表1 描述性统计 (二)相关性分析 表2是各个变量的person相关性分析结果,其中RD和Power的相关系数为0.122,在1%的水平上都显著为正,同时,所有变量之间的person系数均小于0.6,进一步说明各个变量之间不存在多重共线性关系。 表2 相关性分析 (三)多元回归结果 表3为本文的回归结果。根据回归结果可以看出,回归结果(1)和(2)显示Power的系数分别为0.271和0.782,交乘项系数为-0.147,且在1%的水平上显著为正,证明了我们的结论。根据回归结果,可以看到回归结果中调整后的R^2皆在0.35以上,说明模型的解释程度在35%以上,解释力度是比较高的。

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