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本实用新型公开了一种曝光系统、曝光器。所述曝光系统包括：至少两个光源，每个所述光源出射的光的波长不同；合光器，所述合光器用于将所述至少两个光源的出射光合光后输出；光路组件以及标定与运动平台，所述标定与运动平台用于放置待曝光材料，所述光路组件用于将所述合光器输出的光传输至所述标定与运动平台上；控制组件，所述控制组件存储有预设配方，所述控制组件配置为根据所述预设配方控制每个所述光源的输出光强。本实用新型能够改善掩膜材料的配方选型与曝光、显影效果可操作窗口受限制较多，以及无法临时或短时间切换光源的问题
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219417983 U
(45)授权公告日 2023.07.25
(21)申请号 202320861477.3
(22)申请日 2023.04.18
(73)专利权人 苏州迈为科技股份有限公司
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