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本申请涉及一种环氧塑封料芯片保护薄膜及其制备方法,涉及电子芯片保护薄膜领域,所述薄膜包括以下成分:环氧树脂和炭黑,所述炭黑的明暗度L值为36‑40。该薄膜以环氧树脂作为主体树脂,使芯片保护薄膜具有薄膜的特性:如具有延伸性、韧性、黏性等,再通过明暗度L值为36‑40的炭黑提高其光泽度,该L值的炭黑具有黑度高、反射率高的特点,其流平性、分散性好,可提高膜材的镜面效果,从而提高光泽度。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115851080 A
(43)申请公布日 2023.03.28
(21)申请号 202211662014.0
(22)申请日 2022.12.23
(71)申请人 武汉市三选科技有限公司
地址 43
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