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(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115699274 A
(43)申请公布日 2023.02.03
(21)申请号 202180039718.X (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所
11256
(22)申请日 2021.02.18
专利代理师 张宁 姚宗妮
(85)PCT国际申请进入国家阶段日
(51)Int.Cl.
2022.12.01
H01L 21/56 (2006.01)
(86)PCT国际申请的申请数据
H01L 23/31 (2006.01)
PCT/CN2021/076674 2021.02.18
(87)PCT国际申请的公布数据
WO2022/174365 EN 2022.08.25
(71)申请人 华为技术有限公司
地址 518129 广东省深圳市龙岗区坂田华
为总部办公楼
(72)发明人 亚历山大 ·迪克
多米尼克 ·玛乌拉斯
埃齐奥 ·佩罗内 蒂莫 ·科尔达斯
彭杰
权利要求书2页 说明书7页 附图4页
(54)发明名称
用于AiP/AoB的射频布置
(57)摘要
本公开涉及一种射频布置(100,200),该射
频布置(100,200)包括:载体板(101);布置在载
体板(101)上的射频集成电路RF IC(102);以及
包封RF IC(102)的模具层(103),其中模具层
(103)包括添加剂材料,其中添加剂材料通过激
光束局部能够转化为催化敏感种子,催化敏感种
子被配置用于导电材料的催化接收,其中添加剂
材料包括携带金属化层(104)的催化敏感种子,
金属化层(104)形成天线馈电结构(105)。
A
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C
CN 115699274 A 权 利 要 求 书 1/2页
1.一种射频布置(100,200),其特征在于,包括:
载体板(101);
射频集成电路RF IC(102),布置在所述载体板(101)上;以及
模具层(103),包封所述RF IC(102),其中所述模具层(103)包括添加剂材料,其中所述
添加剂材料通过激光束局部能够转化为催化敏感种子,所述催化敏感种子被配置用于导电
材料的催化接收,
其中所述添加剂材料包括携带金属化层(104)的催化敏感种子,所述金属化层(104)形
成天线馈电结构(105)。
2.根据权利要求1所述的射频布置(100,200),其特征在于,
所述催化敏感种子包括微凹凸表面,所述微凹凸表面与所述金属化层(104)相互作用
以确保所述金属化层(104)的粘附。
3.根据权利要求1或2所述的射频布置(100),其特征在于,
所述RF IC(102)包括主表面(106),所述主表面(106)上安装有所述RF IC(102)的至少
一个连接端子(107),
其中所述RF IC(102)的所述主表面(106)面对所述载体板(101)。
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