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- 2023-07-29 发布于四川
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本发明提供对包含紫外线区域的波长的曝光光具有高耐光性、并且具有高耐化学药品性、能够形成良好的转印图案的掩模坯料。所述掩模坯料具备：透光性基板、和设置于透光性基板的主表面上的图案形成用的薄膜，薄膜含有钛、硅及氮，通过X射线光电子能谱法对薄膜的内部区域进行分析而获得的Ti2p窄谱在将键能为455eV的光电子强度设为PN、将键能为454eV的光电子强度设为PT时，满足PN/PT大于1.52的关系，内部区域是薄膜的除上述透光性基板侧的附近区域和与透光性基板相反侧的表层区域以外的区域。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116500853 A
(43)申请公布日 2023.07.28
(21)申请号 202310095704.0 G03F 1/60 (2012.01)
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