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对光学邻近修正光学模型筛选和评估的方法.pdfVIP

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  • 2023-08-02 发布于四川
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对光学邻近修正光学模型筛选和评估的方法.pdf

    本发明提供一种对光学邻近修正光学模型筛选和评估的方法，提供测试图形以及用于光学邻近修正的光学模型；获取所有需要评估的测试图形在一种光学模型下的拟合图像以及在晶圆上的曝光后图像；根据拟合图像和曝光后图像获取对比图像；根据对比图像获取拟合图像和曝光后图像之间的各种参数差异；根据各种参数差异设置加权评价函数，设置加权评价函数的阈值，之后判断测试图形是否符合阈值；符合阈值的测试图形为适应该种光学模型；不符合阈值的测试图形则修正光学模型，重复上述步骤至不符合阈值的测试图形符合阈值；将各测试图形适用的光学模

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116520634 A (43)申请公布日 2023.08.01 (21)申请号 202310473518.6 (22)申请日 2023.04.27 (71)申请人 上海华力集成电路制造有限公司 地址

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