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一种化学机械抛光液及其使用方法.pdfVIP

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  • 2023-08-02 发布于四川
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一种化学机械抛光液及其使用方法.pdf

    本发明提供了一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法。该化学机械抛光液包括研磨颗粒、唑类化合物、络合剂、氧化剂，水溶性纤维素、非离子表面活性剂和水。本发明中的化学机械抛光液可以满足阻挡层抛光过程中对各种材料的抛光速率和选择比的要求，针对前程铜抛光后的不同程度的碟型凹陷和介质层侵蚀均有很好的修复与控制能力。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116515397 A (43)申请公布日 2023.08.01 (21)申请号 202210066663.8 H01L 21/306 (2006.01) (22)申请日 2022.01

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