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版图修正方法、存储介质及终端.pdfVIP

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  • 2023-08-02 发布于四川
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版图修正方法、存储介质及终端.pdf

    一种版图修正方法、存储介质及终端，其中版图修正方法包括：获取修正版图；对所述修正版图进行光学邻近修正验证处理，获取所述修正版图中的错误点；基于所述错误点获取第一局部区域，所述第一局部区域内具有若干待修正图形；对所述第一局部区域的所述待修正图形进行修正处理。基于所述错误点获取第一局部区域，所述第一局部区域内具有若干待修正图形，通过仅对所述第一局部区域的所述待修正图形进行修正处理，避免了全芯片区域的修正，进而有效提高了修正效率，而且避免了在原本修正准确的区域重新出现修正误差，提高了修正准确率。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116520632 A (43)申请公布日 2023.08.01 (21)申请号 202310438642.9 (22)申请日 2023.04.21 (71)申请人 上海华虹宏力半导体制造有限公司 地

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