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本发明提供了一种设有拓扑相变层的半导体激光元件,涉及半导体光电器件技术领域,从下至上依次包括衬底、下限制层、下波导层,有源层、上波导层、电子阻挡层、上限制层,衬底(100)与下限制层(101)之间设有拓扑相变层(107);拓扑相变层在可产生从无序顺电相与有序铁电相的过渡与转变,增强双磁子散射效应,形成1800以上Qe的巨大共振偏移量,增强磁电应力耦合效应,缓解激光元件的压电极化和热应力失配,降低价带带阶,提升载流子注入有源层的均匀性,改善增益均匀性,同时,诱导自旋相变,产生巨大的自旋序控制的磁电
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116526295 A
(43)申请公布日 2023.08.01
(21)申请号 202310116518.0 H01S 5/20 (2006.01)
(22)申请日 2023.02.1
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