原创力文档- 2
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- 2023-08-05 发布于四川
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涉及一种用于处理基板的装置，所述装置包括：腔室，其具有形成在其中的处理空间；基板支承单元，其在所述处理空间中支承所述基板；板，其定位成面对所述处理空间中的所述基板支承单元、并具有形成在其中的多个孔；气体供应单元，其通过所述孔将气体供应到所述处理空间中；和气体排放单元，其通过所述孔排放所述处理空间中的所述气体。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111916369 A
(43)申请公布日
2020.11.10
(21)申请号 20201
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