等离子处理装置.pdfVIP

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  • 2023-08-09 发布于四川
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本实用新型公开了一种等离子处理装置,包括喷枪机构、机架和用于固定待处理产品的固定机构,所述喷枪机构和固定机构分别固定设置于所述机架上,且所述喷枪机构设置于所述固定机构的上方,所述固定机构包括底座、旋转件和用于吸附所述待处理产品的吸附件,所述旋转件相对于所述底座可转动设置,所述吸附件相对于所述旋转件可转动设置,且所述旋转件相对于所述底座的转动轨迹与所述吸附件相对于所述旋转件的转动轨迹存在夹角。本实用新型的等离子处理装置可以对不同形状、类型的待处理产品进行处理,且可以对同一待处理产品的不同位置进行处

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210040121 U (45)授权公告日 2020.02.07 (21)申请号 20192

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