原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本实用新型涉及磁控溅射阴极，公开了一种高靶材利用率的磁控溅射阴极，其核心部件为磁钢组和磁轭组成的磁路模块，磁路模块包括一个磁钢组，磁钢组包括三道等距且竖向设置的第一磁钢，第一磁钢的底部各设有一道第二磁钢，第二磁钢与磁轭直接相连，第二磁钢的N/S极分别与其上方的第一磁钢的S/N极连接。本实用新型提供的磁路结构使得磁场提供更多的与靶材平行的磁场分量，从而提升了靶材的利用率，有效节省了材料，同时，因为刻蚀面更加平坦，可以有效提高膜层的均匀性，获得更好的镀膜效果；可以避免频繁更换靶材，降低开真空室的次数
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210065899 U
(45)授权公告日
2020.02.14
(21)申请号 20192
文档评论（0）