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摘 要
半导体材料氧化锌是禁带宽度为3.37eV的II-VI族直接宽带隙半导体。在室温条件下激子束缚能为60meV,在现实应用中ZnO多在半导体光电器件方面。这些光电器件包括紫外薄膜晶体管、紫外探测器、激光二极管、气体传感器、发光二极管等。正如大家所了解到的,ZnO是 n型导电本征半导体材料,要想将ZnO运用到现实生活中制备光电器件上,就需要制备特定条件的p型ZnO材料。这些条件包括可反复和稳定程度高。本文主要探讨了,蒸发源药品(ZnO)时改变蒸发温度温度和蒸发温度不变,改变蒸发源药品(ZnO)和催化剂(C)摩尔配比的条件下在Si衬底上生长ZnO薄膜质量的好坏。运用易
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