低温CVD法在玻璃衬底上制备氧化锌薄膜及其特性研究.docxVIP

PAGE 3 】 摘要 ZnO薄膜是一种高新材料，ZnO的禁带宽度为3.37eV，激子束缚能高达60meV,这都使得ZnO的应用越来越广泛。近年来，随着ZnO薄膜在各个领域的飞速发展，研究ZnO薄膜的特性以及制备过程成了很多科研机构的发展方向。ZnO薄膜的应用极为广泛，包含了汽车、新能源、航空航天等领域。薄膜原材料廉价易得，无毒无污染且性质相对稳定。本实验主要针对ZnO薄膜的特性以及制备过程做了研究，并对影响ZnO薄膜沉积因素作了分析，具体讨论了在其他条件不变的情况下，改变单一变量，会对ZnO薄膜产生什么影响。 本实验使用CVD法，利用大管式炉低温沉积，在玻璃衬底上生长ZnO薄膜。使用