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一种Nd-Fe-B基永磁薄膜及其制备方法与应用.pdfVIP

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  • 2023-08-12 发布于四川
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一种Nd-Fe-B基永磁薄膜及其制备方法与应用.pdf

    本发明公开了一种Nd‑Fe‑B基永磁薄膜，所述Nd‑Fe‑B基永磁薄膜位于基底表面，包括依次形成于基底上的Ta缓冲层、Nd‑Fe‑B层和Ta覆盖层，所述Ta缓冲层的热膨胀系数介于基底和Nd‑Fe‑B层的热膨胀系数之间，厚度为230‑1000nm。本发明还公开了一种上述Nd‑Fe‑B基永磁薄膜的制备方法与应用。本发明选择热膨胀系数介于基底以及Nd‑Fe‑B层热膨胀系数之间的Ta薄膜作为缓冲层，通过增加Ta薄膜的厚度有效提高了Nd‑Fe‑B基永磁薄膜与基底的结合能力，使得所制备的Nd‑Fe‑B基永磁

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116580910 A (43)申请公布日 2023.08.11 (21)申请号 202310642908.1 (22)申请日 2023.06.01 (71)申请人 中国科学院宁波材料技术与工程研

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