原创力文档- 14
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- 2023-08-12 发布于四川
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本申请公开了一种蒸镀源和蒸镀装置，所述蒸镀源包括坩埚本体和内压板，所述坩埚本体设有朝向待蒸镀基板表面的出口；所述内压板可移动地设置在所述坩埚本体内以与所述坩埚本体形成容置腔，所述内压板开设有蒸镀孔。上述蒸镀源在真空蒸镀过程中，蒸镀材料蒸镀时会在坩埚本体内产生一定的内压，由于内压板可移动地设置在坩埚本体内，通过内压板相对于坩埚本体的移动可以调整坩埚本体内的容置腔大小，从而可以平衡蒸镀时产生的内压，使容置腔内的内压维持在稳定的范围，继而使得蒸镀源具有稳定的蒸发速率，从而提高蒸镀形成的膜层厚度的均一性
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116575003 A
(43)申请公布日 2023.08.11
(21)申请号 202310584402.X
(22)申请日 2023.05.23
(71)申请人 京东方科技集团股份有限公司
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