* * * * * * * 物理因素 物理 因素 主要危害因素 产生的主要生产环节及设备 噪声 噪声 洁净车间和支持区的新风机组、各类真空泵等,以及公用设施的鼓风机、发电机、空压机、冷冻机和水泵等 辐射 激光 光掩膜制作、扩散、光刻、化学气相沉积中用来在芯片上刻号标记、对准校正、测量检验以及光掩膜的制作 红外线 在扩散和化学气相沉积中对硅片进行刻号和测量薄膜厚度等,以及在化学机械研磨中进行窄沟槽隔离以控制制作终点 紫外线 在光刻和刻蚀中,采用紫外线对感光材料进行照射感光和在化学气相沉积中测量薄膜厚度和掺杂浓度等 微波 在干法刻蚀中用来消除感光材料 高频 辐射 在干法蚀刻工序中,反应气体在高频电场的作用下与硅片发生反应以消除某些物质;在化学气相沉积和离子植入中产生等离子进行腔体清洗或引发化学反应,达到沉积薄膜的作用 电离辐射 离子植入作业及测量检测用的X射线机产生X射线 * * 微小气候及工效学问题 物理因素 主要危害因素 产生的主要生产环节及设备 微小气候及工效学问题 微小气候 洁净车间微小环境包括温湿度、正负离子、新风量和微生物等也会影响人体健康 工效学问题 在流水线装配操作过程中,由于长时间重复单调操作,如果操作台或座椅缺乏工效学设计,过多的强迫固定体位、静态紧张,易造成颈、肩、腕等功能障碍、视觉疲劳等。流水线装配和中央控制室监视工作的过分
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